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Metal Electrode |
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Metal Electrode
본사는 Lucida M200-PL ALD를 이용하여 Gate Metal, DRAM Capacitor Electrode, Diffusion Barrier용 등으로 사용될 다양한 Metal 물질의 공정개발을 수행하고 있습니다. 특히 DRAM capacitor용 Electrode로 검토되고 있는 Ruthenium(Ru)를 위한 ALD 장비 개발과 더불어 이에 적합한 Precursor 선정 및 공정 개발을 동시에 수행함으로써 자체적인 기술을 확보하고 있습니다.
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