Global Leader in ALD Technology
- 产品介绍
- 平板显示用
- Lucida GuD
LucidaTM GuD 系列原子层沉积
为OLED的封止介质层用高产能原子层沉积系统
Process module for LucidaTM GuD series
应用范围
- 镀层(Al2O3) 为了柔性基片
- 穿透率(water vapor transmission rate) of<5.0x10-4 g/m2
- OLED用封止介质层(Al2O3)
- 为工业化大批生产的适用
优势
- 高产能 :>10 wafer/hour (Ref.: 30k/month, Tact Time: 1min @50nm)
- 极板尺寸 :≤12 inch
特征
- 先进的工艺kit及紧凑的反应室, 以实现短的反应气体循环周期
- 极其实现化的原子层沉积机制
- 小的占用面积
- 综合集成化的工艺单元模组
- 简便的工艺控制
技术数据
| 型号 | 材料 | 硅片尺寸 (inch) | 厚度 (nm) | 产能 (panel/hour) |
|---|---|---|---|---|
| LucidaTM GuD200-C | Al2O3 | 8 | 30 | >10@LL + 5ALD + UL |
| LucidaTMGuD300-C | Al2O3 | 12 | 30 | >10@LL + 5ALD + UL |