Global Leader in ALD Technology
- 产品介绍
- 半导体用
- Lucida S
LucidaTM S 系列原子层沉积
新概念高产能原子层沉积系统
应用范围
- 为半导体应用用途的超薄膜
: Al2O2, HfO2, ZrO2, TiO2 , SrTiO3 …… - 300mm硅片
- 可以应用于对于高产能的需求
特征
- 持有良好的厚度均匀性和共行阶段覆盖的原子层沉积超薄膜
- 先进的工艺kit
- 及其实现化的原子层沉积机制
- 小的占用面积
- 综合集成化的工艺单元模组
Global Leader in ALD Technology
新概念高产能原子层沉积系统
应用范围
特征