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向韩国纳米技术研究院供应了 Lucida-M300PL 2台ALD设备

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< Lucida M300PL >

本公司(NCD)最近向韩国纳米技术研究院供应了300mm晶片R&D专用2台设备。
Lucida M300PL-O设备是臭氧工艺和等离子体工艺可实现的Oxide沉积专用ALD设备, 还一台Lucida M300PL-M设备是可实现等离子体工艺的Metal沉积专用ALD设备。

R&D设备规格如下:
1)设备名称:Lucida-M300PL-O 和 Lucida-M300PL-M
2)基板 : 晶片 300mm
3)沉积物 :
Lucida-M300PL-O :Al2O3, TiO2, ZrO2, ZnO, HfO2, Ta2O5  等等•••
Lucida-M300PL-M :Co. Ru, W, Ir, TiN, TaN 等等•••
韩国纳米技术研究院是纳米技术研究方面最高研究所。
最尖端的半导体及潜在性值得期待的区域,IoT MEMS开发等等,今后这些方面都使用Lucida-M300PL设备进行研究。而且本公司(NCD)期待供应设备能为尖端纳米技术的发展做出很多贡献。
敝司今后将继续通过持续的研究开发,努力成为最先进的ALD设备公司。