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<Lucida M200PL Series ALD System>

㈜엔씨디는 최근 삼성전자에 반도체 공정용 ALE(Atomic layer etch)에 이어 ASD(area selective deposition) 장비 공급하였습니다.
해당 장비는 2개의 Process Module과 Wafer 이송용 Transfer Module에 결합한 Cluster Type이며 공정 Integration이 가능하도록 프로그램이 적용 되었습니다. 또한 500℃이상의 고온 공정과 Ozone 및 플라즈마 공정이 가능한 차세대 반도체소자를 개발을 위한 전용 장비 입니다.
ALE 장비는 ALD(Atomic layer deposition)과 반대로 증착된 막을 원자층 단위로 Etching할 수 있는 장비이며, ASD 장비는 전체 공정영역에 증착되는 것이 아닌 원하는 특정 영역에만 원자층 증착을 할 수 있는 장비입니다. 현재 많은 학교, 연구소와 기업에서 ALE와 ASD 공정을 적용하여 최첨단의 고집적 미래소자를 활발히 연구하고 있습니다.
㈜엔씨디는 해당 ALE/ASD장비가 반도체의 첨단 기술 발전에 많은 공헌을 할 것으로 기대하고 있으며, 앞으로도 새로운 도전과 지속적인 연구개발로 최고의 ALD장비회사로 거듭나도록 노력하겠습니다.