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한국나노기술연구원에 Lucida M300PL ALD 2 System 공급

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< Lucida M300PL >

(주)엔씨디는 최근 300mm 웨이퍼 R&D용 장비 2 System을 한국나노기술연구원에 공급하였습니다. Lucida M300PL-O는 Ozone 공정과 플라즈마 공정이 가능한 Oxide 증착 전용 ALD 장비이며, Lucida M300PL-M은 플라즈마 공정이 가능한 Metal 증착 전용 ALD 장비입니다.

R&D 공정 장비 사양은
1) System: Lucida M300PL-O, Lucida M300PL-M
2) 기판: 웨이퍼 300mm
3) 증착 물질:
 - Lucida M300PL-O: Al2O3, TiO2, ZrO2, ZnO, HfO2, Ta2O5 등
 - Lucida M300PL-M: Co. Ru, W, Ir, TiN, TaN 등 
한국나노술기술원은 나노 기술 분야 연구에 대한 최고의 연구소로 최첨단 반도체 및 잠재성이 기대되는 MEMS, IoT 영역에 대한 연구 개발을 Lucida M300PL을 사용하여 진행할 것입니다. 엔씨디는 공급장비가 첨단 나노 기술 발전에 많은 공헌을 할 것으로 기대하고 있습니다. 
(주)엔씨디는 앞으로도 지속적인 연구개발로 최고의 ALD장비회사로 거듭나도록 노력하겠습니다.